显影液
特长
高解析度、高精细化效果佳、实现对光阻极细分辨率的显影。
对光阻的分散性及防止再凝结性佳、光阻不会再附着。
低发泡，对应铝、铜等金属配线不会产生蚀刻，适用于铜铝材。
| 种类 | 成分 | 適用光阻 | 推荐条件 | 特点 | |
| 浓度 | 温度 | ||||
| RF-DEV | Na2CO3 表面活性剂 | 正性光阻 | 2%～5％ | 20～30℃ |
高精度解析度。显影端应用广泛。药液寿命优越。 |
| RF-DEV | KOH 表面活性剂 | 负性光阻 | 0.5%～10％ | 20～30℃ | 低浓度使用、优越的成本优势。含有表面活性剂类型。 |
| RF-DEV | TMAH 表面活性剂 |
正性光阻 负性光阻 |
2.38%～任意 | 20～30℃ | 可适用铝、铜金属配线。 优越显影性能。不含Na、K离子。 |
| RF-DEV | TMAH 表面活性剂 |
正性光阻 负性光阻 |
原液 | 20～30℃ | 可适用铝、铜金属配线。优越显影性能。不含Na、K离子。不需要稀释原液使用类型。 |
显影BM测试 ～RF-DEV～
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◆ 光阻：BM ◆ 膜厚：1μm ◆ 烧成：100℃、80sec. ◆ 曝光：280mJ/cm² ◆ 显影液：RF-DEV ◆ 显影温度：23℃ ◆ 显影时间：60sec. |
显影R测试 ～RF-DEV～
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◆ 光阻：R ◆ 膜厚：1.8μm ◆ 烧成：100℃、80sec. ◆ 曝光：280mJ/cm² ◆ 显影液：RF-DEV ◆ 显影温度：23℃ ◆ 显影时间：65sec. |
显影G测试 ～RF-DEV～
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◆ 光阻：BM ◆ 膜厚：1.8μm ◆ 烧成：100℃、80sec. ◆ 曝光：280mJ/cm² ◆ 显影液：RF-DEV ◆ 显影温度：23℃ ◆ 显影时间：60sec. |
显影B测试 ～RF-DEV～
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◆ 光阻：R ◆ 膜厚：1.8μm ◆ 烧成：100℃、80sec. ◆ 曝光：280mJ/cm² ◆ 显影液：RF-DEV ◆ 显影温度：23℃ ◆ 显影时间：65sec. |
其他公司显影测试结果 ～Na2CO3水溶液～
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◆ 光阻：BM ◆ 膜厚：1μm ◆ 烧成：100℃、80sec. ◆ 曝光：280mJ/cm² ◆ 显影液：Na2CO3 ◆ 显影温度：23℃ ◆ 显影时间：60sec. |
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黑色光阻SEM显微镜结果 → 分辨率：5微米 （使用锐帆科技显影液） |
最终形成基板：R、G、B显影后、对比度、分辨率、残象等方面良好。 |
