显影液

特长

高解析度、高精细化效果佳、实现对光阻极细分辨率的显影。

对光阻的分散性及防止再凝结性佳、光阻不会再附着。

低发泡,对应铝、铜等金属配线不会产生蚀刻,适用于铜铝材。

分享

相关产品

 
 
种类 成分 適用光阻 推荐条件 特点
浓度 温度
RF-DEV Na2CO3 表面活性剂 正性光阻 2%~5% 20~30℃

高精度解析度。显影端应用广泛。药液寿命优越。

RF-DEV KOH 表面活性剂 负性光阻 0.5%~10% 20~30℃ 低浓度使用、优越的成本优势。含有表面活性剂类型。
RF-DEV TMAH 表面活性剂

正性光阻

负性光阻

2.38%~任意 20~30℃ 可适用铝、铜金属配线。 优越显影性能。不含Na、K离子。
RF-DEV TMAH 表面活性剂

正性光阻

负性光阻

原液 20~30℃ 可适用铝、铜金属配线。优越显影性能。不含Na、K离子。不需要稀释原液使用类型。

 

显影BM测试 ~RF-DEV~

◆ 光阻:BM

◆ 膜厚:1μm

◆ 烧成:100℃、80sec. 

◆ 曝光:280mJ/cm²

◆ 显影液:RF-DEV

◆ 显影温度:23℃

◆ 显影时间:60sec.

 

显影R测试 ~RF-DEV~ 

◆ 光阻:R

◆ 膜厚:1.8μm

◆ 烧成:100℃、80sec. 

◆ 曝光:280mJ/cm²

◆ 显影液:RF-DEV

◆ 显影温度:23℃

◆ 显影时间:65sec.

 

显影G测试 ~RF-DEV~ 

◆ 光阻:BM

◆ 膜厚:1.8μm

◆ 烧成:100℃、80sec. 

◆ 曝光:280mJ/cm²

◆ 显影液:RF-DEV

◆ 显影温度:23℃

◆ 显影时间:60sec.

 

显影B测试 ~RF-DEV~ 

◆ 光阻:R 

◆ 膜厚:1.8μm

◆ 烧成:100℃、80sec. 

◆ 曝光:280mJ/cm²

◆ 显影液:RF-DEV

◆ 显影温度:23℃

◆ 显影时间:65sec.

 

其他公司显影测试结果 ~Na2CO3水溶液~ 

◆ 光阻:BM

◆ 膜厚:1μm

◆ 烧成:100℃、80sec. 

◆ 曝光:280mJ/cm²

◆ 显影液:Na2CO3

◆ 显影温度:23℃

◆ 显影时间:60sec.

 

黑色光阻SEM显微镜结果 → 分辨率:5微米 (使用锐帆科技显影液)

最终形成基板:R、G、B显影后、对比度、分辨率、残象等方面良好。